Индивидуальное и коллективное предпринимательство. Основные группы торговых товариществ. Объединение лиц и капиталовИндивидуальное предпринимательство. Индивидуальный предприниматель несет полную и неограниченнуюответственность за результаты своей деятельности. Это означает, что в случае образования долга предприниматель расплачивается всем своим имуществом. В компенсацию за долги имущество индивидуала может быть даже конфисковано. Коллективное предпринимательство. Торговые товарищества Основные группы торговых товариществ. Наиболее распространенным является деление торговых товариществ на объединение лиц и объединение капиталов. Объединение лиц основаны на личном участии в делах товарищества. Объединение капиталов предполагает лишь сложение капитальныхсредств, но не деятельности вкладчиков: руководство и оперативное управление предприятием осуществляется специально созданными органами. Ответственность по обязательствам объединения капиталов несет само предприятие (акционерное общество и общество с ограниченной ответственностью). Товарищества – юридические и неюридические лица. В основе этойградации лежит принцип признания (непризнания) за тем или иным товариществом свойств юридического лица. Формирование фоторезистивной маски. Операции проявления и термообработки. Удаление фотомаски. Особенности для негативного и позитивного фоторезиста. Проявление и термообработка ФМ Проявление – избирательное растворение и удаление лишних участков фотослоя, в соответствии с локальным облучением при экспонировании. Для ПФР – удаление экспонированных участков, для НФР – неэкспонированных. Проявители ПФР это слабые водные растворы щелочей, в результате проявления идет химическая реакция, превращающая облученный ПФР в хорошо растворимую и вымываемую соль. Проявители НФР – органические растворители: диоксан, трихлорэтилен, толуол и др. В результате экспонирования происходит фотополимеризация НФР, поперечное сшивание молекул полимера. Удаление фотомаски Если защищенный ФМ слой не является металлическим, фотомаска может быть удалена воздействием концентрированной серной кислоты при температуре порядка 160°С. При этом происходит химическое разрушение ФР и обязательная отмывка. Когда основной слой под фотомаской металлической, то, если использован ПФР, его можно удалить в ацетоне, диоксане и других органических растворителях или в водно-щелочных растворах. При использовании НФР, в силу того, что НФР в органических растворителях не разрушается, а набухает, для удаления его воздействуют механически. Эффективным является плазмохимическое удаление ФМ.
|
