Вольтамперная характеристика идеализированного p-n-перехода.
Идеализированный p-n-переход – это упрощенная модель реального p-n- перехода, в котором пренебрегается процессами генерации и рекомбинации в обедненном слое и сопротивлением нейтральных областей, а также считается, что вне обедненного слоя электрическое поле отсутствует, и носители движутся только вследствие диффузии, носящей одномерный характер. Инжектированные носители диффундируют в глубь полупроводника и рекомбинируют с основными носителями. Через p-n- переход протекает ток, компенсирующий отвод носителей от границы: j=jдф+jдр Из уравнения диффузии для установившегося режима получаем: Опуская индекс при p, это уравнение можно записать в виде , где – диффузионная длина, это среднее расстояние, на которое успевают диффундировать носители за время жизни tp. Общее решение этого уравнения имеет вид Коэффициенты A1 и A 2 находятся из граничных условий: , . Отсюда A1= 0, A2= D p (0), . (2.17) Градиент концентрации на границе перехода (2.18) Плотность дырочного тока равна . (2.19) Аналогично, для плотности электронного тока получаем , (2.20) где Dn и Ln – коэффициент диффузии электронов и диффузионная длина в p- области. Полный ток равен сумме токов электронов и дырок: I=S (jp+jn). Подставив (2.15), (2.16) в (2.19), (2.20), вольтамперную характеристику идеализированного p-n -перехода можно записать в виде , (2.21) где коэффициент I0 называется тепловым током: . (2.22) Подставив сюда pn 0 и np 0 из (1.10), выражение (2.22) можно записать в виде (2.23) Тепловой ток сильно зависит от температуры. Основной вклад в эту зависимость вносит множитель ni2. С учетом (1.7) формулу (2.23) можно записать в виде , (2.24) где множитель I00 слабо зависит от температуры, и в первом приближении этой зависимостью можно пренебречь.
|