Список літератури. 1. Прищепа М.М. Мікроелектроніка. 1. Прищепа М.М. Мікроелектроніка
1. Прищепа М.М. Мікроелектроніка. Ч.1. Елементи мікроелектроніки / М.М.Прищепа, В.П.Погребняк. - Київ: Вища школа, 2004. - 432 с. 2. Ігумнов Д.В.Основи мікроелектроніки / Д.В. Ігумнов, Г.В. Корольов, І.С. Громов.– Київ: Вища школа, 2004. – 252 с. 3. Ефимов И.Е. Микроэлектроника. Физические и технологические основы, надежность / И.Е. Ефимов, И.Я. Козырь, Ю.И. Горбунов. - М.: Высшая школа, 1986. -464 с. 4. Однодворець Л.В. Основи мікроелектроніки. – Суми: Вид-во СумДУ, 2005. – 112 с.
Заняття 3. Фізичні процеси в p-n -переході
Методичні вказівки. При розв’язуванні задач використовуються такі співвідношення: 1) висота потенціального бар’єра визначається за умов, що p-n- перехід виникає в тому місці пластини, де концентрація акцепторної домішки дорівнюватиме концентрації донорної домішки:
де k – стала Больцмана; Т – температура; q – заряд електрона; 2) товщину області просторового заряду можна визначити за формулою де 3) максимальна напруженість електричного поля фіксується на «металургійній» межі переходу (при х =0) і може бути розрахована за формулою: де kT – градієнт концентрації; 4) питома ємність за умов рівноваги і зовнішнього зміщення 5) концентрації надлишкових неосновних носіїв заряду можна визначити за формулами
де 6) концентрації неосновних носіїв заряду в кожній із областей за умов рівноваги 7) для розрахунку повного струму скористаємося формулою де Wn і Wp - товщина областей у напрямі проходження електронів та дірок відповідно; Ln і Lp - дифузійна довжина електронів в області p -типу та дірок в області n -типу відповідно; UT – значення напруги при конкретній температурі; Dn і Dp - коефіцієнти дифузії електронів і домішок відповідно; 8) зворотний струм насичення діода розраховується за формулою 9) вольт-амперна характеристика ідеального діода описується за формулою 10) величина струму насичення 11) ширина області просторового заряду визначається за формулою
|