Студопедия Главная Случайная страница Обратная связь

Разделы: Автомобили Астрономия Биология География Дом и сад Другие языки Другое Информатика История Культура Литература Логика Математика Медицина Металлургия Механика Образование Охрана труда Педагогика Политика Право Психология Религия Риторика Социология Спорт Строительство Технология Туризм Физика Философия Финансы Химия Черчение Экология Экономика Электроника

Задачі для розв’язування. Задача 1. Визначити середню швидкість руху електронів в Ge при кімнатній температурі в електричному полі напруженістю 5 В/м





 

Задача 1. Визначити середню швидкість руху електронів в Ge при кімнатній температурі в електричному полі напруженістю 5 В/м, якщо їх рухливість дорівнює 0, 45 м2/(В .с).

 

Задача 2. Визначити рухливість дірок в InAs при кімнатній температурі в електричному полі напруженістю 2 В/м, якщо їх середня швидкість руху дорівнює 12 м/с.

 

Задача 3. Визначити повну питому провідність носіїв в Ge, якщо рухливість електронів і дірок дорівнює 0, 45 і 0, 35м2/(В.с) відповідно, а концентрація носіїв електричного струму стають величину 1023м-3.

 

Задача 4. Використовуючи дані таблиць, визначити величину власної концентрації вільних носіїв заряду в кремнії (Si), германії (Ge) та арсеніді галію (GaAs) при кімнатній температурі T = 300K та температурі рідкого азоту T = 77 K.

 

Si

T, К еВ α, еВ/К N C, см-3 N V, см-3
  1, 08 0, 56 1, 21 2, 4·10-4 2, 8·1019 1, 13·1019
  3, 6·1018 1, 4·1018

 

Ge

T, К еВ α, еВ/К N C, см-3 N V, см-3
  0, 56 0, 35 0, 80 3, 9·10-4 1, 1·1019 6, 1·1018
  1, 4·1018 7, 3·1017

 

GaAs

T, К еВ α, еВ/К N C, см-3 N V, см-3
  0, 07 0, 45 1, 56 4, 3·10-4 4, 7·1017 7, 0·1018
  5, 8·1016 1, 25·1017

 

Задача 5. Визначити питомий опір ρ електронного та діркового кремнію (Si) з легувальною домішкою Nd, a = 1016 см-3 при кімнатній температурі.

Заняття 2. Фізичні процеси у власних і домішкових напівпровідниках

 

Методичні вказівки. При розв’язуванні задач використовуються такі поняття і співвідношення:

1) концентрація вільних носіїв заряду n i має сильну температурну залежність і визначається

,

де ефективна густина станів у зоні провідності (C) і валентній (V) зоні N C, V також залежить від температури T та ефективної маси носіїв заряду в зоні m *:

Ширина забороненої зони (E g) слабо залежить від температури E g = E g0α T;

2) домішка повністю іонізована, коли концентрація рівноважних електронів дорівнює концентрації легувальної домішки n n0 = N d. Із співвідношення для напівпровідників можна визначити концентрацію неосновних носіїв заряду ;

3) у власному напівпровіднику n 0 = p 0, а положення рівня Фермі стосовно середини забороненої зони напівпровідника φ 0 можна визначити як

,

 

4) формула для визначення положення рівня Фермі відносно положення у власному напівпровіднику :

;

5) концентрацію власних носіїв p 0 (за умови повної іонізації акцепторів) можна визначити за величиною питомого опору

Задача 5. Кремній (Si) та арсенід галію (GaAs) леговані донорною домішкою до концентрації N d = 1017 см-3. Враховуючи, що домішка повністю іонізована, визначити концентрацію основних і неосновних носіїв заряду при температурі Т = 300K.

Задача 6. Визначити об'ємне положення рівня Фермі відносно середини забороненої зони φ 0 у власних напівпровідниках – кремнії (Si) та антимоніді індію (InSb) при температурах Т 1 = 300 K і Т 2 = 77 K (з урахуванням різних значень ефективних мас електронів і дірок).

Задача 7. Визначити об'ємне положення рівня Фермі φ 0 в германії (Ge) р-типу, легованому алюмінієм при температурі Т = 300 К. Питомий опір ρ = 10 Ом·см.

 

Задача 8. Розрахувати об'ємне положення рівня Фермі φ 0 відносно середини забороненої зони антимоніду індію (InSb) при азотній температурі Т = 77 К і концентрації легувальної домішки Nd = N a = 1015 см-3.

 

 

Задача 10. Визначити, як зміниться об'ємне положення рівня Фермі φ 0 в електронному арсеніді галію (GaAs) з ρ = 1 Ом·см при зміні температури від Т = 300 К до Т = 77 К.

 







Дата добавления: 2014-11-10; просмотров: 1102. Нарушение авторских прав; Мы поможем в написании вашей работы!




Важнейшие способы обработки и анализа рядов динамики Не во всех случаях эмпирические данные рядов динамики позволяют определить тенденцию изменения явления во времени...


ТЕОРЕТИЧЕСКАЯ МЕХАНИКА Статика является частью теоретической механики, изучающей условия, при ко­торых тело находится под действием заданной системы сил...


Теория усилителей. Схема Основная масса современных аналоговых и аналого-цифровых электронных устройств выполняется на специализированных микросхемах...


Логические цифровые микросхемы Более сложные элементы цифровой схемотехники (триггеры, мультиплексоры, декодеры и т.д.) не имеют...

Йодометрия. Характеристика метода Метод йодометрии основан на ОВ-реакциях, связанных с превращением I2 в ионы I- и обратно...

Броматометрия и бромометрия Броматометрический метод основан на окислении вос­становителей броматом калия в кислой среде...

Метод Фольгарда (роданометрия или тиоцианатометрия) Метод Фольгарда основан на применении в качестве осадителя титрованного раствора, содержащего роданид-ионы SCN...

Краткая психологическая характеристика возрастных периодов.Первый критический период развития ребенка — период новорожденности Психоаналитики говорят, что это первая травма, которую переживает ребенок, и она настолько сильна, что вся последую­щая жизнь проходит под знаком этой травмы...

РЕВМАТИЧЕСКИЕ БОЛЕЗНИ Ревматические болезни(или диффузные болезни соединительно ткани(ДБСТ))— это группа заболеваний, характеризующихся первичным системным поражением соединительной ткани в связи с нарушением иммунного гомеостаза...

Решение Постоянные издержки (FC) не зависят от изменения объёма производства, существуют постоянно...

Studopedia.info - Студопедия - 2014-2025 год . (0.01 сек.) русская версия | украинская версия