МЕТОДИКА ИЗМЕРЕНИЯ ЭДС ХОЛЛА

Непосредственной экспериментальной задачей при холловских исследованиях обычно является измерение ЭДС либо тока Холла и последующий расчет коэффициента Холла.

Величина коэффициента Холла для различных материалов может изменяться в широких пределах. Так, например, для типичных металлов ~10 В·см/(A·Гс), так что ЭДС Холла при не слишком больших плотностях тока и напряженности магнитного поля ~10 Гс составляет всего несколько микровольт. Для полупроводников с концентрацией носителей заряда 10 см коэффициент Холла составляет 10 В·см/(A·Гс). В этом случае ЭДС Холла достигает нескольких микровольт, но измерять ее приходится в цепи высокого сопротивления. Поэтому желательно, чтобы метод обеспечивал возможность измерения ЭДС Холла в пределах от 10 до 10^-2 В на образцах полупроводников с удельным сопротивлением от 10 до 10 Ом·см. Такого универсального метода со столь широкими возможностями нет.

Существующие методы измерения ЭДС Холла могут быть подразделены следующим образом:

1) метод постоянного поля и постоянного тока;

2) метод постоянного поля и переменного тока;

3) метод переменного поля и постоянного тока;

4) метод переменного поля и переменного тока.

Основная трудность, возникающая при использовании второго, третьего и четвертого методов, связана с необходимостью устранения электромагнитных наводок, сравнимых по величине с ЭДС Холла. Для этого используется достаточно сложная аппаратура. Поэтому эти методы не нашли широкого применения, несмотря на достаточно высокую чувствительность.