Студопедия Главная Случайная страница Обратная связь

Разделы: Автомобили Астрономия Биология География Дом и сад Другие языки Другое Информатика История Культура Литература Логика Математика Медицина Металлургия Механика Образование Охрана труда Педагогика Политика Право Психология Религия Риторика Социология Спорт Строительство Технология Туризм Физика Философия Финансы Химия Черчение Экология Экономика Электроника

Диффузионные резисторы





 

Для диффузионных резисторов чаще всего используется полоска базового р-слоя с двумя омичес­кими контактами (рисунки 4.17а и б), расположенного в коллекторном n-слое. Для изоляции резисторов на n-слой подается максимальное положительное напряжение.

Рисунок 4.17

Для такой полосковой конфигурации сопротивление резистора записывается в виде , (4. 1)

где r- удельное сопротивление полупроводника, l, b, d – длина, ширина и глубина резистивного слоя (рисунок 4.17а и б). Поскольку удельное сопротивление и глубина р-слоя у всех резисторов одинаковы, то обозначим RS =r/d и назовем это - удельное сопротивление слоя. Отношение l/b называется коэффициент формы резистора КФ. Тогда

R=RS× КФ. (4.2)

И длина, и ширина резистора ограничены. Длина l не мо­жет превышать размеров кристалла, т. е. лежит в пределах 1-5 мм. Ширина bограничена возможностями фотолитографии, боковой диффузией, а также допустимым разбросом (10—20%). Практичес­ки минимальная ширина составляет 10-15 мкм.

Подставляя в (4.2) значения RS = 200 Ом/ð и l/b =50, по­лучаем максимальное значение сопротивления RМАКС=10KOм. Это значение можноповысить в 2-3 раза, используя не полосковую, а зигзагообразнуюконфигурацию резистора (рисунок 4.17в).

Количество «петель» в ко­нечном счете, ограничено пло­щадью, отводимой под резистор. Обычно n £ 3, в противном случае площадь резистора может достигать 15-20% площади всего кристалла. Максимальное сопротивление при

n = 3 не превышает 20-30 кОм.

Температурный коэффи­циент резистора, вы­полненного на основе базово­го слоя, составляет 0, 15- 0, 30%/0С, в зависимости от значения RS. Разброс сопро­тивлений относительно рас­четного номинала составляет ± (15-20)%. При этом со­противления резисторов, рас­положенных на одном кри­сталле, меняются в одну и ту же сторону. Поэтому отно­шение сопротивлений со­храняется с гораздо меньшим допуском (+3% и менее), а температурный коэффициент для отношения сопро­тивлений не превышает ± 0, 01 %/°С. Эта особенность играет важную роль и ши­роко используется при разра­ботке ИМС.

Если необходимые номиналы сопротивлений превышают20-30 кОм, можно использовать так называемые пинч-резисторы. Струк­тура пинч-резистора показана на рисунке 4.17г. По сравнению с про­стейшим резистором пинч-резистор имеет меньшую площадь се­чения и большее удельное сопротивление (так как используется донная, т. е. слабо легированная часть базового р-слоя). Поэтому у пинч-резисторов удельное сопротивление слоя RS обычно составляет 2-5 кОм/’ и более, в зависимости от толщины. При таком значении RSмаксимальное сопротивление может достигать значений 200-300 кОм даже при простейшей полосковой конфигурации.

Недостатками пинч-резисторов являются: больший разброс номиналов (до 50%) из-за сильного влияния изменения толщины р-слоя, больший температур- ный коэффициент сопротивления (0, 3- 0, 5%/°С) из-за меньшей степени леги -рования донной части р-слоя, нелинейность вольтамперной характеристики при напряжениях более 1-1, 5 В. Последняя особенность вытекает из аналогии между структурами пинч-резистора и полевого транзистора. ВАХ пинч-резис- тора совпадает с ВАХ полевого тран­зистора, если напряжение на затворе последнего по­ложить равным нулю (поскольку у пинч-резистора слои n+ и рсоединены друг с другом металлизацией). Пробивное напряжение пинч-резисторов определяется пробивным напряжением эмиттерного перехода (обычно 5-7 В).

Если необходимые номиналы сопротивлений составляют 100 Ом и менее, то использование базового слоя нецелесообразно, так как ширина резистора должна быть меньше его длины, что конструктивно трудно осуществить. Для получения резисторов с малыми номиналами сопротивлений используют низкоомный эмиттерный слой. При значениях RS= 5-15 Ом/’, свой­ственных этому слою, удается получить минималь­ные сопротивления 3-5 Ом с температурным коэффициентом 0, 01- 0, 02%/°С.

 







Дата добавления: 2014-11-10; просмотров: 3602. Нарушение авторских прав; Мы поможем в написании вашей работы!




Композиция из абстрактных геометрических фигур Данная композиция состоит из линий, штриховки, абстрактных геометрических форм...


Важнейшие способы обработки и анализа рядов динамики Не во всех случаях эмпирические данные рядов динамики позволяют определить тенденцию изменения явления во времени...


ТЕОРЕТИЧЕСКАЯ МЕХАНИКА Статика является частью теоретической механики, изучающей условия, при ко­торых тело находится под действием заданной системы сил...


Теория усилителей. Схема Основная масса современных аналоговых и аналого-цифровых электронных устройств выполняется на специализированных микросхемах...

Йодометрия. Характеристика метода Метод йодометрии основан на ОВ-реакциях, связанных с превращением I2 в ионы I- и обратно...

Броматометрия и бромометрия Броматометрический метод основан на окислении вос­становителей броматом калия в кислой среде...

Метод Фольгарда (роданометрия или тиоцианатометрия) Метод Фольгарда основан на применении в качестве осадителя титрованного раствора, содержащего роданид-ионы SCN...

Тема 5. Организационная структура управления гостиницей 1. Виды организационно – управленческих структур. 2. Организационно – управленческая структура современного ТГК...

Методы прогнозирования национальной экономики, их особенности, классификация В настоящее время по оценке специалистов насчитывается свыше 150 различных методов прогнозирования, но на практике, в качестве основных используется около 20 методов...

Методы анализа финансово-хозяйственной деятельности предприятия   Содержанием анализа финансово-хозяйственной деятельности предприятия является глубокое и всестороннее изучение экономической информации о функционировании анализируемого субъекта хозяйствования с целью принятия оптимальных управленческих...

Studopedia.info - Студопедия - 2014-2026 год . (0.009 сек.) русская версия | украинская версия