Студопедия — Техника термовакуумного напыления
Студопедия Главная Случайная страница Обратная связь

Разделы: Автомобили Астрономия Биология География Дом и сад Другие языки Другое Информатика История Культура Литература Логика Математика Медицина Металлургия Механика Образование Охрана труда Педагогика Политика Право Психология Религия Риторика Социология Спорт Строительство Технология Туризм Физика Философия Финансы Химия Черчение Экология Экономика Электроника

Техника термовакуумного напыления






 

Рабочая камера установки термовакуумного напыления представляет собой цилиндрический металлический или стеклянный колпак 1, размещенный на опорной плите 8 и уплотненный резиновой прокладкой 7. Внутри рабочей камеры располагается подложкодержатель 3 с подложкой 4, ее нагреватель 2 и испаритель 6. Между испарителем и подложкой имеется заслонка 5, позволяющая в нужный момент прекращать подачу испаряемого вещества. Рабочая камера откачивается вакуумными насосами до давления 10-3 – 10-4 Па, которое измеряется вакуумметром.

  Рис. 2.5. Схема термовакуумного напыления: 1 – колпак, 2 - нагреватель подложки, 3 - подложкодержатель, 4 – подложка, 5 – заслонка, 6 – испаритель, 7 – уплотняющая прокладка, 8 – опорная плита установки, 9 - маска

Стационарная и съемная оснастка вакуумной камеры периодически очищается от наслоений предыдущих напылений. Процесс начинают с загрузки вакуумной камеры: испаряемый материал помещают в тигель (испаритель), подложки устанавливают в подложкодержатели, маски – в маскодержатели. В зависимости от конструкции внутрикамерных устройств техника выполнения загрузки может различаться. Затем камеру герметизируют и производят откачку воздуха. При закрытой заслонке производят нагрев подложек до заданной температуры и испарителей до температуры испарения. Производят ионную очистку поверхностей подложек. Откачивают камеру до предельного вакуума. После этого открывают заслонку и ведут напыление пленки. При получении заданной толщины пленки процесс напыления прекращают, перекрывая атомарный поток заслонкой. Подложки охлаждают и после этого в камеру напускают воздух и производят выгрузку подложек.

В зависимости от способа нагрева осаждаемого вещества различают резистивные, электронно-лучевые и индукционные испарители.

Резистивные испарители изготавливают из проволоки и лент тугоплавких металлов, а также из графита и диборида титана TiB2 (рис.2.6).

Рис.2.6. Резистивные испарители:

а, б – проволочные; в, г – ленточные; д, е – тигельные; 1 – нагреватель, 2 – испаряемый материал, 3 – компенсаторы, 4 – тигель, 5 - крышка

 

Проволочные испарители (рис. 2.6, а, б) просты по конструкции, хорошо компенсируют тепловое расширение, но недолговечны, не позволяют испарять сыпучие материалы и объем их мал.

Ленточные испарители для устранения тепловой деформации имеют компенсаторы (рис.2.6, в) и позволяют испарять большее, чем проволочные, количество вещества. Материалы, склонные к разбрызгиванию и выбрасыванию крупных частиц, осаждают из испарителей, снабженных сетчатой крышкой (рис.2.6, г).

В тигельных испарителях из теплостойкой керамики (Al2O3, BeO, ThO2) устранен непосредственный контакт нагревателя с испаряемым материалом и значительно увеличена загрузка (рис.2.6, д). Графитовый тигельный испаритель (рис.2.6, е) представляет собой стержень с выфрезерованным углублением в центре, куда закладывают испаряемое вещество.

Электронно-лучевые испарители (рис.2.7, а) основаны на преобразовании кинетической энергии электронов в энергию нагрева при бомбардировке ими испаряемого материала. Эти испарители применяются при нанесении пленок тугоплавких материалов, не загрязняют камеру материалом нагревателя тигля и могут быть использованы более длительное время, чем резистивные. Площадь сфокусированного электронного пучка 3 – 60 мм2, напряжение на аноде 6 – 10 кВ, скорость испарения до 5 мг/с.

Индукционные испарители (рис.2.7, б) основаны на разогреве материала высокочастотным электромагнитным полем, создаваемым индуктором.

Рис. 2.7. Электронно-лучевой (а) и индукционный (б) испарители:

1 – катод, 2 – управляющий электрод, 3 – анод, 4 - магнитная фокусирующая система, 5 – электронный луч, 6 – испаряемый материал, 7 - индуктор

 

К материалам испарителей предъявляются следующие требования:

1) между материалом испарителя и испаряемым веществом не должно происходить химических реакций;

2) не должны образовываться легколетучие сплавы этих веществ, так как в противном случае происходит загрязнение наносимых пленок и разрушение испарителя;

3) давление пара материала испарителя при температуре испарения напыляемого вещества должно быть пренебрежимо малым.







Дата добавления: 2015-10-02; просмотров: 1097. Нарушение авторских прав; Мы поможем в написании вашей работы!



Функция спроса населения на данный товар Функция спроса населения на данный товар: Qd=7-Р. Функция предложения: Qs= -5+2Р,где...

Аальтернативная стоимость. Кривая производственных возможностей В экономике Буридании есть 100 ед. труда с производительностью 4 м ткани или 2 кг мяса...

Вычисление основной дактилоскопической формулы Вычислением основной дактоформулы обычно занимается следователь. Для этого все десять пальцев разбиваются на пять пар...

Расчетные и графические задания Равновесный объем - это объем, определяемый равенством спроса и предложения...

Субъективные признаки контрабанды огнестрельного оружия или его основных частей   Переходя к рассмотрению субъективной стороны контрабанды, остановимся на теоретическом понятии субъективной стороны состава преступления...

ЛЕЧЕБНО-ПРОФИЛАКТИЧЕСКОЙ ПОМОЩИ НАСЕЛЕНИЮ В УСЛОВИЯХ ОМС 001. Основными путями развития поликлинической помощи взрослому населению в новых экономических условиях являются все...

МЕТОДИКА ИЗУЧЕНИЯ МОРФЕМНОГО СОСТАВА СЛОВА В НАЧАЛЬНЫХ КЛАССАХ В практике речевого общения широко известен следующий факт: как взрослые...

ОСНОВНЫЕ ТИПЫ МОЗГА ПОЗВОНОЧНЫХ Ихтиопсидный тип мозга характерен для низших позвоночных - рыб и амфибий...

Принципы, критерии и методы оценки и аттестации персонала   Аттестация персонала является одной их важнейших функций управления персоналом...

Пункты решения командира взвода на организацию боя. уяснение полученной задачи; оценка обстановки; принятие решения; проведение рекогносцировки; отдача боевого приказа; организация взаимодействия...

Studopedia.info - Студопедия - 2014-2024 год . (0.011 сек.) русская версия | украинская версия