Позитивные и негативные фоторезисторы. Разрешающая способность. Фоточувствительность. Стойкость к воздействию агрессивных факторов

ФР и вообще все резисты– это, в основном, полимеры.

При облучении УФ в структуре НФР происходит дополнительная полимеризация, происходит сшивание молекул полимера, он становится нерастворимым и остается на поверхности подложки после проявления в органических растворителях.

ПФР при облучении УФ становится растворимым и удаляется с подложки после проявления в щелочных растворах.

Фоточувствительность. Стойкость к воздействию агрессивных факторов.

Характеристики фоторезиста

1) Фоточувствительность

S –величина обратно пропорциональная экспозиции достаточной для перевода ФР в растворимые/нерастворимые состояния

S

Е – освещенность

- время освещения

λ = 460Нм – 360Нм – ультрафиолет

2) Разрешающая способность – R

R – максимальное число линий одинаковой ширины, разделенных промежутками, равными ширине линий, которые можно получить на 1мм.

R=

Часто разрешающей способностью называют минимальню ширину линии, которую можно получить при использовании данного ФР. В этом случае R измеряется в мкм.

Стойкость ФР к воздействию агрессивных сред – это время, в течение которого ФР не разрушается.Тип ФР выбирается в зависимости от конкретного применения с учетом свойств негативного или позитивного ФР. Учитывают следующее:

ПФР передает не предусмотренные сквозные отверстия непрозрачной части фотошаблона – проколы. НФР передает в виде островков на подложке.

Там, где опасны проколы, применяется НФР. Например, проколы опасны в трехслойных конденсаторах. Там, где опасны островки, применяют ПФР.