Индивидуальное и коллективное предпринимательство. Основные группы торговых товариществ. Объединение лиц и капиталов

Индивидуальное предпринимательство.

Индивидуальный предприниматель несет полную и неограниченнуюответственность за результаты своей деятельности. Это означает, что в случае образования долга предприниматель расплачивается всем своим имуществом. В компенсацию за долги имущество индивидуала может быть даже конфисковано.

Коллективное предпринимательство. Торговые товарищества

Основные группы торговых товариществ.

Наиболее распространенным является деление торговых товариществ на объединение лиц и объединение капиталов.

Объединение лиц основаны на личном участии в делах товарищества.

Объединение капиталов предполагает лишь сложение капитальныхсредств, но не деятельности вкладчиков: руководство и оперативное управление предприятием осуществляется специально созданными органами. Ответственность по обязательствам объединения капиталов несет само предприятие (акционерное общество и общество с ограниченной ответственностью).

Товарищества – юридические и неюридические лица. В основе этойградации лежит принцип признания (непризнания) за тем или иным товариществом свойств юридического лица.

Формирование фоторезистивной маски. Операции проявления и термообработки. Удаление фотомаски. Особенности для негативного и позитивного фоторезиста.

Проявление и термообработка ФМ

Проявление – избирательное растворение и удаление лишних участков фотослоя, в соответствии с локальным облучением при экспонировании. Для ПФР – удаление экспонированных участков, для НФР – неэкспонированных.

Проявители ПФР это слабые водные растворы щелочей, в результате проявления идет химическая реакция, превращающая облученный ПФР в хорошо растворимую и вымываемую соль.

Проявители НФР – органические растворители: диоксан, трихлорэтилен, толуол и др. В результате экспонирования происходит фотополимеризация НФР, поперечное сшивание молекул полимера.

Удаление фотомаски

Если защищенный ФМ слой не является металлическим, фотомаска может быть удалена воздействием концентрированной серной кислоты при температуре порядка 160°С. При этом происходит химическое разрушение ФР и обязательная отмывка.

Когда основной слой под фотомаской металлической, то, если использован ПФР, его можно удалить в ацетоне, диоксане и других органических растворителях или в водно-щелочных растворах. При использовании НФР, в силу того, что НФР в органических растворителях не разрушается, а набухает, для удаления его воздействуют механически. Эффективным является плазмохимическое удаление ФМ.